KD-Y2O3-99 氧化钇喷涂粉 · 99.9% · 石墨板/静电卡盘
氧化钇系列

产品概述
KD-Y2O3-99是昆山照动贸易作为专业氧化钇供应商专为石墨板、静电卡盘等半导体关键部件开发的超高纯氧化钇喷涂粉,采用特殊工艺处理,纯度高达99.9%,杂质含量极低,Fe<50ppm,Si<80ppm。产品具有优异的抗等离子体侵蚀性能和电绝缘性能,喷涂后涂层均匀致密,结合力强(≥40MPa),表面粗糙度Ra≤0.8μm,特别适合于半导体刻蚀设备中对纯度和性能要求极高的关键部件。作为半导体氧化钇喷粉专业供应商,我们的产品通过ISO9001质量体系认证,支持提供第三方检测报告。该产品广泛应用于半导体腔体、刻蚀机腔体、真空设备等离子喷涂领域,能有效解决氧化钇涂层发红、黑点等行业难题。
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| 检测项目 | 规格指标 |
|---|---|
| 产品型号 | KD-Y2O3-99 |
| 主成分Y₂O₃纯度 | ≥99.9% |
| 杂质Fe含量 | <50ppm |
| 杂质Si含量 | <80ppm |
| 粒径范围 | 15-53μm |
| 颗粒形态 | 球形团聚 |
| 霍尔流速 | ≤25s/50g |
| 松装密度 | 1.5-1.8g/cm³ |
| 涂层结合强度 | ≥40MPa |
| 涂层表面粗糙度 | Ra≤0.8μm |
| 涂层孔隙率 | <1.5% |
| 推荐喷涂工艺 | 大气等离子喷涂(APS) |
| 适用基材 | 石墨板、静电卡盘(ESC) |
| 质量认证 | ISO9001:2015 |
| 包装规格 | 25kg/桶 |
* 以上为产品规格指标,实际每批次指标以随货 COA 检测报告为准。
半导体腔体防护涂层,提高设备耐腐蚀性
静电卡盘表面处理,优化晶圆加工环境
刻蚀机内部组件防护,减少微污染
真空设备零部件涂层,延长维护周期
电子元件绝缘层,保障电路安全
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产品详情
KD-Y2O3-99超高纯氧化钇喷涂粉是昆山照动贸易专为半导体行业石墨板和静电卡盘(ESC)等关键部件开发的高端喷涂材料。在半导体制造过程中,石墨板和静电卡盘直接承载晶圆,对涂层的纯度和性能要求极为严苛。普通氧化钇喷涂粉在喷涂后容易出现涂层发红、黑点、杂质污染等问题,严重影响晶圆良率和设备稳定性。KD-Y2O3-99正是为解决这些核心痛点而生。
该产品采用特殊工艺制备,Y₂O₃纯度高达99.9%以上,杂质含量控制极为严格:Fe<50ppm、Si<80ppm,远优于行业平均水平。喷涂后涂层均匀致密,结合力高达≥40MPa,表面粗糙度Ra≤0.8μm,电绝缘性能优异。在半导体刻蚀设备中,涂层表现出极强的抗等离子体侵蚀能力,可有效保护石墨基体免受高能等离子体轰击,显著延长部件使用寿命。
昆山照动贸易作为专业氧化钇供应商,产品通过ISO9001质量体系认证,支持提供第三方检测报告。从原材料筛选到成品出厂,全流程执行严格的质量控制,确保每批次产品在纯度、粒度、涂层性能等关键参数上高度一致。产品已在国内多家半导体设备制造商完成工艺验证并投入量产使用,是替代进口超高纯氧化钇喷涂粉的高性价比之选。
核心特性详解
特性一:99.9%超高纯度,从源头杜绝污染
KD-Y2O3-99的Y₂O₃纯度达到99.9%以上,Fe含量<50ppm,Si含量<80ppm,其他金属杂质总和控制在极低水平。在半导体刻蚀工艺中,涂层直接暴露在高能等离子体环境下,任何金属杂质都会在高温下析出并污染晶圆表面,导致良率下降甚至批次报废。超高纯度意味着涂层在等离子体轰击下不会释放金属异物,从根本上保障半导体制造工艺的洁净度要求,特别适合对纯度要求极高的石墨板和静电卡盘应用。
特性二:涂层结合力≥40MPa,附着力行业领先
产品采用特殊工艺处理,喷涂后涂层与石墨基体的结合力高达≥40MPa,远优于普通氧化钇喷涂粉(通常≤30MPa)。高结合力意味着在反复热循环和等离子体轰击工况下,涂层不易开裂、剥落,可有效延长部件的维护周期(PM Interval)。对于静电卡盘等关键部件,涂层附着力不足会导致卡盘失效、晶圆脱落等严重问题,KD-Y2O3-99的高结合力特性可显著降低这类风险,提高设备运行稳定性和晶圆加工安全性。
特性三:解决涂层发红、黑点等行业难题
在石墨板喷涂过程中,由于石墨基体含有杂质或喷涂工艺不当,涂层容易出现发红、黑点等缺陷,严重影响外观质量和性能。KD-Y2O3-99超高纯氧化钇喷涂粉从原料纯度、粒度分布、喷涂工艺等多个维度进行优化,有效解决这些行业难题。涂层表面均匀致密,颜色一致,无明显缺陷,表面粗糙度Ra≤0.8μm,满足高端半导体设备对涂层外观和性能的双重要求,帮助客户提升产品品质和市场竞争力。
特性四:通过ISO9001认证,质量可追溯
昆山照动贸易严格执行ISO9001:2015质量管理体系,从原材料采购、生产加工、成品检验到出货包装,每个环节均可追溯。每批次出厂均附完整COA分析报告,涵盖纯度、粒度分布、流动性、松装密度、涂层结合力等关键指标,支持客户来样对比验证。产品通过第三方SGS检测,可提供独立检测报告,确保产品质量真实可靠。完善的质保体系让客户采购无忧,长期使用品质稳定。
应用场景详解
场景一:半导体刻蚀设备石墨基座防护
在ICP/RIE刻蚀设备中,石墨基座直接承载晶圆,长期暴露在高能CF₄/O₂或Cl₂/BCl₃等离子体环境中。使用KD-Y2O3-99超高纯氧化钇喷涂粉制备的涂层,可有效保护石墨基体免受等离子体侵蚀,涂层刻蚀速率低至0.8-1.2μm/h。超高纯度确保涂层在高温下不会释放金属杂质污染晶圆,高结合力(≥40MPa)保证涂层在反复热循环下不开裂剥落,显著延长石墨基座使用寿命至12个月以上,降低设备维护成本和停机损失。
场景二:静电卡盘(ESC)涂层制备
静电卡盘是半导体刻蚀和CVD设备中的关键部件,通过静电力固定晶圆,对涂层的电绝缘性能、结合力和表面粗糙度要求极高。KD-Y2O3-99涂层体积电阻率>10^14Ω·cm,电绝缘性能优异,结合力≥40MPa,表面粗糙度Ra≤0.8μm,完全满足静电卡盘的严苛要求。涂层均匀致密,可有效隔绝等离子体对卡盘基体的侵蚀,同时保证静电力均匀分布,避免晶圆滑动或脱落。使用该喷涂粉后,静电卡盘的使用寿命可延长至18-24个月,显著降低备件更换频率和成本。
场景三:真空设备精密部件防护
在半导体Fab厂的真空传输系统中,管道弯头、阀门、Shower Head等精密部件因形状复杂、更换成本高,对涂层的均匀性和结合力提出更高要求。KD-Y2O3-99超高纯氧化钇喷涂粉可在复杂形状部件表面形成均匀防护层,涂层结合强度≥40MPa,不易脱落。高纯度特性确保涂层在高真空环境下放气率极低,不会污染真空系统。使用该喷涂粉可有效延长这些关键部件的使用周期至12-18个月,降低备件采购成本和设备维护复杂度。
常见问题
Q1:KD-Y2O3-99超高纯氧化钇喷涂粉的纯度是多少?与普通氧化钇有何区别?
A1:KD-Y2O3-99的Y₂O₃纯度达到99.9%以上,Fe<50ppm,Si<80ppm,远优于普通氧化钇喷涂粉(纯度通常≤99.5%,杂质含量较高)。超高纯度意味着涂层在等离子体轰击下不会释放金属异物,特别适合对纯度要求极高的石墨板和静电卡盘应用,可有效避免晶圆污染和良率下降。
Q2:这款氧化钇喷涂粉的涂层结合力如何?能否解决涂层脱落问题?
A2:KD-Y2O3-99涂层结合力高达≥40MPa,远优于普通氧化钇喷涂粉(通常≤30MPa)。高结合力确保涂层在反复热循环和等离子体轰击工况下不易开裂、剥落,可有效解决涂层脱落问题。对于静电卡盘等关键部件,高结合力可避免卡盘失效、晶圆脱落等严重风险,显著提高设备运行稳定性。
Q3:产品是否通过质量认证?能否提供第三方检测报告?
A3:昆山照动贸易严格执行ISO9001:2015质量管理体系,产品通过认证,支持提供第三方SGS检测报告。每批次出厂均附完整COA分析报告,涵盖纯度、粒度、流动性、松装密度、涂层结合力等关键指标,支持客户来样对比验证。完善的质保体系让客户采购无忧,长期使用品质稳定可靠。
如需获取KD-Y2O3-99超高纯氧化钇喷涂粉的技术参数表、COA报告或申请样品测试,请联系昆山照动贸易:张经理 15962635247(微信同号),我们提供免费技术咨询和定制化喷涂材料解决方案。
等离子枪型:F4
工作气体:Ar 42 SLPM,H₂ 11 SLPM
喷涂电流:550A
喷涂距离:120mm



